该机型在多弧离子镀膜机的基础上配置圆柱靶或平面磁控靶,设备具备离子镀的高离化率、高沉积速度的特点,同时也具备磁控溅射低温、稳定的优点,适合镀各种复合膜层,,可以做到多复合膜层一次性完成,膜层具有很高的结合力、硬度、耐磨系数,特别适合钟表、五金刀具、工艺品厂家的IPG、IPS、刀具搀杂、复合膜层的制备。
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